| Esta imagen obtenida mediante un microscopio de fuerza atómica muestra el autoensamblaje de una línea impresa de copolímero de bloque sobre una plantilla preparada mediante fotolitografía. (Foto: Serdar Onses / Universidad de Illinois en Urbana-Champaign)
Un equipo de ingenieros de diversas instituciones ha desarrollado una nueva técnica de fabricación de nanoestructuras que será de utilidad para el sector industrial de los dispositivos de almacenamiento magnético de datos y el de los semiconductores en general.
El nuevo método combina tecnología avanzada de impresión por chorro de tinta, con un enfoque de diseño que pasa por el auto ensamblaje de copolímeros de bloque. Estos representan un tipo de material que puede formar espontáneamente estructuras ultrafinas.
El equipo de nueve especialistas de la Universidad de Illinois en Urbana-Champaign, la Universidad de Chicago y la Universidad Hanyang en Seúl.
El desafío a superar es que muchos de estos materiales son incompatibles con los tipos de técnicas litográficas que se usan tradicionalmente en la industria de los circuitos integrados.
La combinación de la impresión por chorro de tinta con el auto ensamblaje de copolímeros de bloque ha permitido a Rogers y sus colaboradores obtener la muy alta resolución que se busca, al tiempo que se evitan los problemas asociados a las técnicas convencionales.
Fuente: Amazings, Diciembre 25 2013 Recuperada en Febrero 12 de 2014 http://noticiasdelaciencia.com/not/9126/fabricar_nanoestructuras_mediante_impresion_de_chorro_de_tinta_y_autoensamblaje/ |
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